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EDXRF熒光光譜儀器光源和應(yīng)用范圍有關(guān)
發(fā)布時(shí)間：2020-10-20 11:05:15 點(diǎn)擊：5913
熒光光譜儀光源主要有放射性同位素、X射線(xiàn)管、質(zhì)子、同步輻射源等。早期的光譜儀均使用放射性同位素,可產(chǎn)生多種類(lèi)型的接近單色的射線(xiàn),但是系統(tǒng)的檢出限受制于射線(xiàn)能量的不可調(diào)性，主要用于現(xiàn)場(chǎng)或在線(xiàn)分析。
EDXRF熒光光譜儀器光源
X射線(xiàn)管的應(yīng)用最為普遍，從20世紀(jì)80年代末起，不同陽(yáng)極材料的小型X射線(xiàn)管已逐步取代放射性同位素了，常規(guī)EDXRF能量色散熒光光譜儀器用X射線(xiàn)管功率一般不超過(guò)100 W，不需額外的冷卻裝置。
質(zhì)子激發(fā)產(chǎn)生的X射線(xiàn)截而積較大、軔致輻射引發(fā)的本底較小，分析靈敏度較常規(guī)EDXRF高，可進(jìn)行痕量分析，并能提供元索的深度敏感信息。同步輻射源作為強(qiáng)勁有力的第3代光源，其優(yōu)異特性是強(qiáng)度大(比常規(guī)X射線(xiàn)管強(qiáng)4~5個(gè)數(shù)量級(jí))、亮度高、天然準(zhǔn)直性、頻譜寬、連續(xù)可調(diào)以及在電子軌道平面內(nèi)100%線(xiàn)偏振等,特別適宜于痕量、微區(qū)及價(jià)態(tài)分析。
光源探測(cè)器經(jīng)過(guò)多年的發(fā)展已經(jīng)越來(lái)越成熟，種類(lèi)也越來(lái)越多，應(yīng)用在不同的領(lǐng)域中。
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